氟硼二吡咯,meso位,芘取代,合成,单线态氧,光敏活性 ," /> 氟硼二吡咯,meso位,芘取代,合成,单线态氧,光敏活性 ,"/> 新型<em>meso</em>位芘取代氟硼二吡咯衍生物的合成及光敏活性
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合成化学  2020, Vol. 28 Issue (09): 778-785    DOI: 10.15952/j.cnki.cjsc.1005-1511.20049
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新型meso位芘取代氟硼二吡咯衍生物的合成及光敏活性
杨小松1a, 邹遥海1a, 梁力曼1a,孟迪1a, 彭飞1b,牛奎1a*
1. 河北科技师范学院 a. 化学工程学院河北 秦皇岛 066004 b. 分析测试中心河北 秦皇岛 066004  
Synthesis and Photosensitive Properties of Novel Meso-Pyrenyl-Substituted Boron Dipyrromethene Derivatives
YANG Xiao-song1a, ZOU Yao-hai1a, LIANG Li-man1a, MENG Di1a, PENG Fei1b, NIU Kui1a*

a. School of Chemical Engineering, ; b. Center of Instrumental Analysis, 1. Hebei Normal University of Science and Technology, Qinhuangdao 066004, China

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