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含羧基的席夫碱型聚硅氧烷液晶的合成及其液晶性能 |
张立眉, 高建峰, 张立成, 王赫 |
1. 中国铝业公司,北京 100082; 2. 中北大学 理学院 化学系,山西 太原 030051; 3. 中国航天科工集团第四研究院,湖北 武汉 430040 |
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摘要 对羟基苯甲醛与对胺基苯甲酸缩合制得刚性基元(1);3-溴丙烯与对羟基苯甲酸经取代反应制得对烯丙氧基苯甲酸(2); 2经加成和酰氯化后,与1经酯化反应合成了含羧基的席夫碱型聚硅氧烷液晶(5),其结构经IR确证。对5的液晶性能进行了测试。结果表明:5属于近晶型条带织构; 5具有较高的熔点和清亮点温度,液晶区间在180.34~251.11 ℃。
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关键词 :
聚硅氧烷,
席夫碱,
液晶,
条带织构,
合成,
液晶性能
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收稿日期: 2015-06-23
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作者简介: 张立眉(1983-),女,汉族,山西河津人,硕士研究生,工程师,主要从事氧化铝制备工艺的研究。Tel. 010-82298596, E-mail: zlm830727@163.com |
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